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《云南电子技术》编辑组编1978 年出版65 页ISBN：
近些年来，氧化铁选择性透明光刻掩模由于优良的膜特，已越来越快地用于国外集成电路和其它半导体器件制备工艺。
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杨寿山编著1978 年出版269 页ISBN：15063·油146
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上海机械制造工艺研究所，广州重型机器厂编1978 年出版83 页ISBN：15192·4
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石油化学工业部科学技术情报研究所编1978 年出版162 页ISBN：15063·化292
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《核技术》编辑部编1978 年出版94 页ISBN：
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国家地质总局颁布1978 年出版126 页ISBN：15038·新340
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华罗庚，王元著1978 年出版248 页ISBN：13031·808
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（美）Robert.D Cook著1978 年出版255 页ISBN：
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张郁弘，庄灿涛编著1978 年出版516 页ISBN：15034·1663
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中国印刷科学技术研究所1978 年出版71 页ISBN：
