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- 作 者:《云南电子技术》编辑组编
- 出 版 社:云南省电子工业研究所
- 出版年份:1978
- ISBN:
- 标注页数:65 页
- PDF页数:68 页
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三、CVD氧化铁彩色掩模的制作&八七三厂十四车间 21
四、超微粒干版制备的一些改进&八七三厂十四车间 24
五、超微粒干版制作小结&国营四三二六厂六车间制版组 25
六、聚乙烯二茂铁的制备&重庆东方红试剂厂净化车间茂铁小组 27
七、明胶简介&重庆皮胶厂 29
八、氧化铁版自动控制装置&国营八七九厂 30
九、超微粒聚乙烯醇干版研制初步(摘录)&四川大学半导体专业 35
十、PD光掩模的研制和应用&四川大学半导体专业 亚光电工厂五车间 37
十一、减小溴化银颗粒度分散性的一个措施&重庆大学 45
十二、国外电子束制版情况简介&中国科技情报研究所重庆分所 46