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中国地质科学院勘探技术研究所主编1978 年出版64 页ISBN：15038·新276
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中国地质科学院勘探技术研究所主编1978 年出版82 页ISBN：15038·新345
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中国地质科学院勘探技术研究所主编1978 年出版59 页ISBN：15038·新266
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铁道部第三设计院标准处主编1978 年出版611 页ISBN：15043·5075
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西北轻工业学院，上海市造纸工业公司编1978 年出版246 页ISBN：15042·1464
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《云南电子技术》编辑组编1978 年出版65 页ISBN：
近些年来，氧化铁选择性透明光刻掩模由于优良的膜特，已越来越快地用于国外集成电路和其它半导体器件制备工艺。
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上海机械制造工艺研究所，广州重型机器厂编1978 年出版83 页ISBN：15192·4
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石油化学工业部科学技术情报研究所编1978 年出版162 页ISBN：15063·化292
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《核技术》编辑部编1978 年出版94 页ISBN：
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国家地质总局颁布1978 年出版126 页ISBN：15038·新340
