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西北轻工业学院，上海市造纸工业公司编1978 年出版246 页ISBN：15042·1464
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《云南电子技术》编辑组编1978 年出版65 页ISBN：
近些年来，氧化铁选择性透明光刻掩模由于优良的膜特，已越来越快地用于国外集成电路和其它半导体器件制备工艺。
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中国人民解放军工程兵政治部文化部编1978 年出版218 页ISBN：10019·2583
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上海机械制造工艺研究所，广州重型机器厂编1978 年出版83 页ISBN：15192·4
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石油化学工业部科学技术情报研究所编1978 年出版162 页ISBN：15063·化292
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《核技术》编辑部编1978 年出版94 页ISBN：
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煤炭工业部制订1978 年出版89 页ISBN：15035·2147
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国家地质总局颁布1978 年出版126 页ISBN：15038·新340
