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林存良主编1978 年出版339 页ISBN：15012·098
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第四机械工业部第一研究所编1978 年出版277 页ISBN：
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第四机械工业部第一研究所编1978 年出版149 页ISBN：
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（美）亨 利（W.O.Henry）著；铁道部北京二七通信工厂科研所翻译组译1978 年出版292 页ISBN：15043·4040
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上海师范大学中教组物理教研组编1978 年出版350 页ISBN：7150·1912
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《云南电子技术》编辑组编1978 年出版65 页ISBN：
近些年来，氧化铁选择性透明光刻掩模由于优良的膜特，已越来越快地用于国外集成电路和其它半导体器件制备工艺。
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第七机械工业部第708所编1978 年出版517 页ISBN：
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第四机械工业部第一研究所编辑1978 年出版211 页ISBN：
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第四机械工业部第一研究所编辑1978 年出版89 页ISBN：
