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超大规模集成电路先进光刻理论与应用 【工业技术】
韦亚一著2016 年出版578 页ISBN:9787030482686光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律得以继续。本书覆盖现代光刻技术的重要方面,包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺。在设备部分,对业界使用...
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2009景观图像模型 【工业技术】
毛文正,吴旸编著2009 年出版175 页ISBN:9787533532659本书汇集了泛亚公司近期制作完成的模型资料,包括景观设计、模型素材及设计案例三个部分,书末还附2张光盘,便于读者调用。
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