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化学发光基础理论与应用 【数理化】
林金明编著2004 年出版309 页ISBN:7502555218本书介绍了鲁米诺、过氧化草酸酯、高锰酸钾和四价铈等四种最常用化学避光试剂的化学发光研究与应用概况。
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应用光学与光学设计基础 【数理化】
迟泽英,陈文建编著2008 年出版517 页ISBN:9787564114381本书是一本涵盖应用光学成像基本理论、典型实用光学系统以及应用ZEMAX软件进行光学设计基本方法等丰富内容的专业技术基础性教材与参考书。全书分四篇共15章。...
