- 作 者：王姝娅，戴丽萍，钟志亲等编著
- 出 版 社：北京：科学出版社
- 出版年份：2015
- ISBN：9787030444943
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第1章 基础知识 1
1.1 硅片 1
1.2 清洗 2
1.3 氧化 4
1.4 扩散 7
1.5 离子注入 11
1.6 光刻 13
1.7 刻蚀 18
1.8 化学气相沉积 22
1.8.1 APCVD 22
1.8.2 LPCVD 23
1.8.3 PECVD 25
1.9 物理气相沉积 29
1.9.1 蒸发 29
1.9.2 磁控溅射 31
第2章 基础工艺实验 33
2.1 清洗工艺实验 33
2.1.1 实验目的 33
2.1.2 实验原理 33
2.1.3 实验内容 34
2.1.4 实验设备与器材 34
2.1.5 实验步骤 34
2.1.6 注意事项 35
2.1.7 思考题 35
2.2 氧化工艺实验 35
2.2.1 实验目的 35
2.2.2 实验原理 36
2.2.3 实验内容 37
2.2.4 实验设备与器材 37
2.2.5 实验步骤 37
2.2.6 注意事项 38
2.2.7 思考题 38
2.3 扩散工艺实验 39
2.3.1 实验目的 39
2.3.2 实验原理 39
2.3.3 实验内容 40
2.3.4 实验设备与器材 40
2.3.5 实验步骤 40
2.3.6 注意事项 41
2.3.7 思考题 41
2.4 离子注入实验 41
2.4.1 实验目的 41
2.4.2 实验原理 41
2.4.3 实验内容 43
2.4.4 实验设备与器材 43
2.4.5 实验步骤 43
2.4.6 注意事项 43
2.4.7 思考题 43
2.5 光刻实验 44
2.5.1 实验目的 44
2.5.2 实验原理 44
2.5.3 实验内容 44
2.5.4 实验设备与器材 45
2.5.5 实验步骤 45
2.5.6 注意事项 45
2.5.7 思考题 45
2.6 湿法刻蚀工艺实验 46
2.6.1 硅刻蚀 46
2.6.2 湿法刻蚀实验 48
2.6.3 氮化硅的刻蚀 50
2.6.4 铝刻蚀 52
2.7 干法刻蚀实验 53
2.7.1 实验目的 53
2.7.2 实验原理 54
2.7.3 实验内容 56
2.7.4 实验设备与器材 56
2.7.5 实验步骤 56
2.7.6 注意事项 58
2.7.7 思考题 58
2.8 化学气相沉积实验 58
2.8.1 LPCVD制备Si3N4、SiO2薄膜及非晶硅薄膜 58
2.8.2 PECVD制备Si3N4、SiO2薄膜及非晶硅薄膜 60
2.9 金属薄膜制备实验 63
2.9.1 电子束蒸发工艺实验 63
2.9.2 磁控溅射工艺实验 65
2.10 金属剥离工艺实验 68
2.10.1 实验目的 68
2.10.2 实验原理 68
2.10.3 实验内容 69
2.10.4 实验设备与器材 69
2.10.5 实验步骤 70
2.10.6 注意事项 70
2.10.7 思考题 70
第3章 基础测试实验 71
3.1 物理性能测试实验 71
3.1.1 SiO2厚度测试实验 71
3.1.2 方块电阻的测量实验 74
3.1.3 结深的测量实验 78
3.2 电学性能测试 80
3.2.1 晶圆级二极管性能测试实验 84
3.2.2 晶圆级双极型晶体管性能测试实验 86
3.2.3 晶圆级MOS管性能测试实验 89
第4章 微电子制造综合实验 93
4.1 二极管制造实验 93
4.1.1 实验目的 93
4.1.2 实验原理 93
4.1.3 实验内容 97
4.1.4 实验设备与器材 97
4.1.6 实验注意事项 99
4.1.7 思考题 99
4.2 肖特基二极管制造试验 100
4.2.1 实验目的 100
4.2.2 实验原理 100
4.2.3 实验内容 102
4.2.4 实验设备与器材 103
4.2.5 实验步骤 103
4.2.6 实验注意事项 104
4.2.7 思考题 104
4.3 三极管制造实验 104
4.3.1 实验目的 104
4.3.2 实验原理 105
4.3.3 实验内容 109
4.3.4 实验设备与器材 109
4.3.5 实验步骤 109
4.3.6 实验注意事项 111
4.3.7 思考题 111
4.4 CMOS管制造实验 111
4.4.1 实验目的 111
4.4.2 实验原理 111
4.4.3 实验内容 116
4.4.4 实验设备与器材 116
4.4.5 实验步骤 117
4.4.6 实验注意事项 118
4.4.7 思考题 119
4.5 集成电阻器制造实验 119
4.5.1 实验目的 119
4.5.2 实验原理 120
4.5.3 实验内容 124
4.5.4 实验设备与器材 124
4.5.5 实验步骤 124
4.5.6 实验注意事项 126
4.5.7 思考题 126
4.6 集成运算放大器参数测试实验 126
4.6.1 实验目的 126
4.6.2 实验原理 127
4.6.3 实验内容 128
4.6.4 实验设备与器材 128
4.6.5 实验步骤 129
4.6.6 思考题 134
4.7 逻辑IC功能和参数测试实验 134
4.7.1 实验目的 134
4.7.2 实验原理 134
4.7.3 实验内容 146
4.7.4 实验设备与器材 147
4.7.5 实验步骤 148
4.7.6 思考题 152
主要参考文献 153