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模拟电路版图的艺术
  • 作 者:(美)黑斯廷斯著
  • 出 版 社:北京:电子工业出版社
  • 出版年份:2011
  • ISBN:9787121143939
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第1章 器件物理 1

1.1半导体 1

1.2 PN结 9

1.3双极型晶体管 16

1.4 MOS晶体管 20

1.5 JFET晶体管 25

1.6小结 27

1.7习题 28

第2章 半导体制造 30

2.1硅制造 30

2.2光刻技术 33

2.3氧化物生长和去除 35

2.4扩散和离子注入 41

2.5硅淀积和刻蚀 46

2.6金属化 51

2.7组装 60

2.8小结 64

2.9习题 64

第3章 典型工艺 66

3.1标准双极工艺 66

3.2多晶硅栅CMOS工艺 80

3.3模拟BiCMOS 96

3.4小结 110

3.5习题 110

第4章 失效机制 113

4.1电过应力 113

4.2玷污 121

4.3表面效应 125

4.4寄生效应 139

4.5小结 154

4.6习题 155

第5章 电阻 157

5.1电阻率和方块电阻(薄层电阻) 157

5.2电阻版图 159

5.3电阻变化 162

5.4电阻的寄生效应 167

5.5不同电阻类型的比较 170

5.6调整电阻阻值 182

5.7小结 191

5.8习题 191

第6章 电容和电感 193

6.1电容 193

6.2电感 210

6.3小结 215

6.4习题 216

第7章 电阻和电容的匹配 218

7.1失配的测量 218

7.2失配的原因 220

7.3器件匹配规则 253

7.4小结 259

7.5习题 259

第8章 双极型晶体管 262

8.1双极型晶体管的工作原理 262

8.2标准双极型小信号晶体管 274

8.3 CMOS和BiCMOS工艺小信号双极型晶体管 292

8.4小结 306

8.5习题 307

第9章 双极型晶体管的应用 309

9.1功率双极型晶体管 309

9.2双极型晶体管匹配 327

9.3双极型晶体管匹配设计规则 340

9.4小结 345

9.5习题 345

第10章 二极管 349

10.1标准双极工艺二极管 349

10.2CMOS和BiCMOS工艺二极管 363

10.3匹配二极管 365

10.4小结 368

10.5习题 368

第11章 场效应晶体管 370

11.1 MOS晶体管的工作原理 371

11.2构造CMOS晶体管 384

11.3浮栅晶体管 402

11.4 JFET晶体管 408

11.5小结 412

11.6习题 412

第12章MOS晶体管的应用 415

12.1扩展电压晶体管 415

12.2功率MOS晶体管 423

12.3 MOS晶体管的匹配 440

12.4 MOS晶体管的匹配规则 454

12.5小结 457

12.6习题 457

第13章 一些专题 460

13.1合并器件 460

13.2保护环 469

13.3单层互连 474

13.4构建焊盘环 479

13.5ESD结构 483

13.6习题 496

第14章 组装管芯 500

14.1规划管芯 500

14.2布局 506

14.3顶层互连 511

14.4小结 520

14.5习题 520

附录A缩写词汇表 523

附录B立方晶体的米勒指数 527

附录C版图规则实例 529

附录D数学推导 536

附录E版图编辑软件的出处 541

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