当前位置：专业必读 化合物真空镀pdf电子书下载 > 工业技术
- 作 者：余时之著
- 出 版 社：大行出版社
- 出版年份：1974
- ISBN：
- 标注页数：115 页
- PDF页数：121 页
请阅读订购服务说明与试读!
订购服务说明
1、本站所有的书默认都是PDF格式，该格式图书只能阅读和打印，不能再次编辑。
2、除分上下册或者多册的情况下，一般PDF页数一定要大于标注页数才建议下单购买。【本资源121 ≥115页】
图书下载及付费说明
1、所有的电子图书为PDF格式，支持电脑、手机、平板等各类电子设备阅读；可以任意拷贝文件到不同的阅读设备里进行阅读。
2、电子图书在提交订单后一般半小时内处理完成,最晚48小时内处理完成。(非工作日购买会延迟)
3、所有的电子图书都是原书直接扫描方式制作而成。
绪论 17
第一章 沉积技术种类简介 27
第二章 真空蒸发技术 31
第三章 真空沉积层的耐久性及其表面清洁设备 37
1.化学清洁 37
2.离子轰击清洁 42
3.气体在低气压下的放电 47
4.离子轰击设备 50
5.离子轰击 57
6.真空沉积薄膜的耐久性 59
第四章 光学干涉膜 60
1.减反射膜 61
2.耐久的减反射膜 63
3.复层减反射膜 69
4.高反射膜 71
第五章 干涉膜层沉积的控制设备 73
1.制取减反射膜层的控制设备 73
2.多层干涉层的沉积设备 81
3.膜层厚度的控制技术及其设备 83
第六章 金属氧化物膜层制取 85
1.序言 85
2.金属氧化物的真空蒸发 86
3.金属氧化物的反应机射 91
第七章 一系列氧化物膜层的制备 99
1.光学的应用 99
A.氧化铝 99
B.二气化釱 100
C.氧化铁 106
D.低反射比的吸收滤光片 108
E.二氧化硅的蒸发 109
第八章 导电性的氧化物制备 114