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- 作 者：余时之著
- 出 版 社：大行出版社
- 出版年份：1974
- ISBN：
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绪论 17
第一章 沉积技术种类简介 27
第二章 真空蒸发技术 31
第三章 真空沉积层的耐久性及其表面清洁设备 37
1.化学清洁 37
2.离子轰击清洁 42
3.气体在低气压下的放电 47
4.离子轰击设备 50
5.离子轰击 57
6.真空沉积薄膜的耐久性 59
第四章 光学干涉膜 60
1.减反射膜 61
2.耐久的减反射膜 63
3.复层减反射膜 69
4.高反射膜 71
第五章 干涉膜层沉积的控制设备 73
1.制取减反射膜层的控制设备 73
2.多层干涉层的沉积设备 81
3.膜层厚度的控制技术及其设备 83
第六章 金属氧化物膜层制取 85
1.序言 85
2.金属氧化物的真空蒸发 86
3.金属氧化物的反应机射 91
第七章 一系列氧化物膜层的制备 99
1.光学的应用 99
A.氧化铝 99
B.二气化釱 100
C.氧化铁 106
D.低反射比的吸收滤光片 108
E.二氧化硅的蒸发 109
第八章 导电性的氧化物制备 114