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真空镀膜  光学材料的选择与应用
  • 作 者:钟迪生编著
  • 出 版 社:沈阳:辽宁大学出版社
  • 出版年份:2001
  • ISBN:7561043120
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第1章 薄膜材料的基本理论和特性 1

§1.1 电磁波谱 1

§1.2 金属、介质和半导体的能带结构 1

§1.3 晶格振动的调谐 3

§1.4 材料的光学性质 5

§1.5 金属与合金材料 12

§1.6 介质与半导体材料 20

§1.6.1 高透明性 20

§1.6.2 吸收和散射性 22

§1.6.3 折射率 24

§1.6.4 机械性质 28

参考文献 53

第2章 金属薄膜材料 58

§2.1 银Ag 59

§2.2 铝Al 73

§2.3 金Au 95

§2.4 铬Cr 107

§2.5 锗Ge 112

§2.6 铱Ir 114

§2.7 锇Os 121

§2.8 铂Pt 128

§2.9 铼Re 142

§2.10 铑Rh 146

§2.11 钉Ru 156

参考文献 163

§3.1 氟化钡BaF2 169

第3章 介质和半导体薄膜材料 169

§3.2 氟化铋BiF3 172

§3.3 氟化钙CaF2 173

§3.4 氟化镧LaF3 174

§3.5 氟化锂LiF 178

§3.6 氟化镁MgF2 181

§3.7 冰晶石Na3AlF6 190

§3.8 氟化铅PbF2 193

§3.9 氟化钍ThF4 194

§3.10 氟化钇YF2 197

§3.11 三氟化二铝Al2O3 205

§3.12 二氧化铈CeO2 208

§3.13 氧化钆Gd2O3 212

§3.14 氧化铪HfO2 216

§3.15 氧化铟In2O3 221

§3.16 氧化镧La2O3 222

§3.17 氧化镁MgO 224

§3.18 氧化钕Nd2O3 226

§3.19 氧化铅PbO 227

§3.20 氧化镨Pr2O11 228

§3.21 氧化钉RuO2 229

§3.22 氧化钪Sc2O3 229

§3.23 一氧化硅SiO 231

§3.24 二氧化硅SiO2 235

§3.25 氧化锡SnO2 241

§3.26 氧化钽Ta2O5 245

§3.27 二氧化钛TiO2 252

§3.28 氧化钨WO3 265

§3.29 氧化钇Y2O3 271

§3.30 氧化锌ZnO 274

§3.31 氧化锆ZrO2 278

§3.32 三硫化二砷As2S3 288

§3.33 硫化镉CdS 290

§3.34 硫化锌Zns 293

§3.35 锑化铟InSb 301

§3.36 硒化铟In2Se3 302

§3.37 硒化锑Sb2Se3 304

§3.38 硒化锌ZnSe 305

§3.39 碲化镉CdTe 307

§3.40 碲化铅PbTe 309

§3.41 氮化钛TiN 312

参考文献 319

第4章 光学性能可变换的薄膜材料 337

§4.1 电致变色薄膜材料 337

§4.2 热致变色薄膜材料 341

§4.3 受压变色薄膜材料 345

§4.4 光致变色薄膜材料 347

参考文献 349

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