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- 作 者:上海市科学技术编译馆编译
- 出 版 社:上海市科学技术编译馆
- 出版年份:1965
- ISBN:15·327
- 标注页数:84 页
- PDF页数:86 页
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1.硅平面晶体管及其应用 伴野正美等 1
2.硅平面晶体管的设计和工艺 J.C.Henderson等 7
3.扩散PNP平面晶体管制造工艺 G.Bradshaw等 12
4.二氧化硅薄膜的应用及其形成法 田中利雄 16
5.平面扩散 布施升 23
6.光刻 安福真民 31
7.用表面活性剂解决光致抗蚀剂的粘附不良问题 37
8.电子学显微照相 T.C.Hellmers等 38
9.微电子学元件用的显微照片阵列 J.J.Murray等 43
10.在半导体器件生产中用复眼透镜技术制造掩模 W.E.Rudge等 45
11.电解研磨 传田精一 50
12.引线的热压连接 手岛宽郎 54
13.再氧化期间平面结的退化 F.Barson等 58
14.在硅中硼的扩散 E.L.William 62
15.氧化层对磷向硅中扩散的影响 R.B.Allen等 66
16.一种实用的高频等效线路 J.W.Baker 70
17.高频晶体管的电学性质 H.G.Bassett等 75
18.半导体器件的制造方法 日本专利 81