- 作 者：陈家荣
- 出 版 社：成都：西南交通大学出版社
- 出版年份：2017
- ISBN：9787564354688
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1 绪论 1
1.1 研究背景 1
1.2 硅纳米晶发光的研究现状及进展 3
1.3 实验设备及其技术 6
1.4 本研究的工作目标 15
1.5 本书安排及取得的主要成就 16
参考文献 17
2 硅纳米晶的制备及其电致发光机理研究 21
2.1 硅纳米晶的制备 21
2.2 硅纳米晶的结构特性和光学特性的表征 24
2.3 硅纳米晶的电致发光机理研究 28
2.4 本章小结 38
参考文献 38
3 界面效应对硅纳米晶发光的影响 42
3.1 不同基体材料样品的制备 44
3.2 硅纳米晶的发光光谱 47
3.3 界面效应对硅纳米晶发光的影响 52
3.4 其他因素对硅纳米晶电致发光强度的影响 61
3.5 本章小结 64
参考文献 64
4 场效应在硅纳米晶电致发光中的增强研究 68
4.1 样品的制备 72
4.2 界面电场的验证 74
4.3 场效应层厚度的优化 78
4.4 样品的光致发光和电致发光强度 79
4.5 场效应对硅纳米晶电致发光强度的增强研究 81
4.6 本章小结 85
参考文献 86
5 表面等离子体在硅纳米晶发光中的增强研究 90
5.1 表面等离子体（Surface Plasmons） 92
5.2 样品的制备 96
5.3 表面等离子体的表征 99
5.4 表面等离子体对硅纳米晶发光的增强研究 102
5.5 本章小结 106
参考文献 107
6 量产硅量子点的制备及其发光研究 111
6.1 量产硅量子点的制备方法 111
6.2 量产硅量子点的光学性质和结构表征 115
6.3 量产硅量子点的光致发光及电致发光研究 119
6.4 本章小结 125
参考文献 125
7 硅纳米晶光学增益的增强研究 129
7.1 硅纳米晶光学增益的测试方法与模拟计算 130
7.2 样品的制备 134
7.3 H钝化与Ce3＋掺杂对硅纳米晶光增益的增强研究 134
7.4 本章小结 139
参考文献 139
8 总结与展望 143
8.1 内容总结 143
8.2 展望 145
附录 147
附录1 实验试剂列表 147
附录2 硅纳米晶形成的微观过程 148
附录3 增强硅纳米晶光致发光的方法 150