- 作 者：宋瑛林，石光著
- 出 版 社：北京：国防工业出版社
- 出版年份：2016
- ISBN：9787118101775
- 标注页数：203 页
- PDF页数：212 页
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第1章 光学非线性测量技术 1
1.1 光学非线性测量技术的分类 1
1.2 光克尔门技术 6
1.3 单光束Z扫描技术 9
参考文献 20
第2章 4f相位成像技术的基本原理与发展 23
2.1 衍射系统的屏函数和相因子判断法 23
2.2 正弦光栅的衍射 27
2.3 阿贝成像原理与相衬显微镜 32
2.4 傅里叶变换 36
2.5 空间滤波和信息处理 45
2.6 4f成像技术的发展 49
2.7 4f相位成像技术 55
2.8 4f相位成像技术基本理论 60
参考文献 61
第3章 4f相位成像技术中的相位滤波 63
3.1 相位滤波 64
3.2 相衬 71
3.3 讨论 73
3.3.1 误差分析 73
3.3.2 负PO对称性 74
3.3.3 相衬的一阶近似和实验验证 74
3.3.4 测量灵敏度 75
3.3.5 相衬振荡和单调测量区间 76
3.3.6 高阶非线性折射 78
3.3.7 其他形状的相位物体 78
参考文献 78
第4章 非线性吸收和非线性折射的测量 80
4.1 光的吸收和色散 80
4.2 群速 88
4.3 光的散射 90
4.4 4f相位成像Z扫描技术 93
4.5 非线性吸收和非线性折射的同时测量 96
4.6 非线性吸收对非线性折射测量的影响 99
参考文献 106
第5章 时间分辨4f相位成像技术 107
5.1 基于4f相位成像系统的时间分辨泵浦探测技术 108
5.2 半导体ZnSe的超快束缚电子和自由载流子非线性动力学 109
5.3 金属酞菁化合物的激发态非线性动力学 114
5.4 克尔分子液体的双光束耦合非线性动力学 123
参考文献 137
第6章 双4f相位成像技术 139
6.1 串联双4f相位成像技术 141
6.2 并联双4f相位成像技术 142
6.3 ZnSe的非线性折射转化研究 144
6.3.1 实验步骤与过程 146
6.3.2 近红外波段双光子诱导ZnSe非线性折射率符号改变 149
6.3.3 实验结果 149
6.3.4 理论分析 152
参考文献 153
第7章 样品表面不均匀情况下的测量 154
7.1 测量原理 155
7.2 超薄膜CuPc（COONa）4/PDDA的光学非线性测量 156
7.2.1 石英基片预处理 157
7.2.2 自组装薄膜的制备 157
7.2.3 小角X射线衍射（XRD） 159
7.2.4 Z扫描实验 160
7.2.5 4f相位成像实验 161
参考文献 163
第8章 厚介质3阶光学非线性测量 164
参考文献 173
第9章 反射4f相位成像技术 175
9.1 光在电介质表面的反射和折射 178
9.1.1 菲涅耳反射折射公式 178
9.1.2 反射率和透射率 182
9.1.3 斯托克斯倒逆关系 184
9.1.4 相位关系与半波损问题 184
9.1.5 反射、折射时的偏振现象 185
9.1.6 全反射与衰逝波 186
9.2 反射4f相位成像技术理论模型 187
参考文献 194
第10章 相位光阑的优化与改进 195
10.1 圆形相位光阑的优化 195
10.2 正负圆形相位光阑 198
10.3 正负环形相位光阑 201
参考文献 203