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材料制备原理与技术
  • 作 者:谷智,介万奇,周万城编著
  • 出 版 社:西安:西北工业大学出版社
  • 出版年份:2014
  • ISBN:9787561238875
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第1章 晶体化学基础 1

1.1 化学键 1

1.2 离子晶体的晶格能 4

1.3 离子晶体结构的影响因素 6

1.4 鲍林离子晶体规则 12

思考题 14

第2章 晶体的点缺陷 15

2.1 点缺陷的类型 15

2.2 点缺陷的符号表示法 18

2.3 缺陷化学反应表示法 19

2.4 点缺陷的热力学平衡 20

2.5 固熔体 22

2.6 非化学计量化合物 24

2.7 点缺陷与电子-空穴对 26

思考题 28

第3章 熔融态和玻璃态 29

3.1 熔体结构 29

3.2 熔体性质 31

3.3 玻璃的通性 36

3.4 玻璃的形成 38

3.5 玻璃的结构 46

3.6 硅酸盐玻璃 49

3.7 玻璃中的分相现象 52

思考题 57

第4章 相平衡与相图 58

4.1 相与相平衡 58

4.2 单元系统相图 60

4.3 二元系统相图 65

4.4 三元系统相图 76

思考题 93

第5章 扩散过程 94

5.1 固体中的扩散机构 94

5.2 扩散动力学方程 95

5.3 扩散系数 97

5.4 扩散系数与温度、杂质的关系 99

5.5 氧化物中的扩散 101

5.6 影响扩散系数的其他因素 105

思考题 106

第6章 固相反应 107

6.1 固相反应的特点及分类 107

6.2 固相反应动力学方程 110

6.3 影响固相反应的因素 117

思考题 120

第7章 烧结过程 121

7.1 烧结的推动力和传质机理 121

7.2 固相烧结动力学 126

7.3 液相烧结动力学 132

7.4 晶粒生长与二次再结晶 137

7.5 影响烧结的因素 142

思考题 148

第8章 晶体生长的物理基础 149

8.1 成核理论 149

8.2 界面的平衡结构 157

8.3 晶体生长动力学 168

思考题 181

第9章 晶体生长的方法与技术 182

9.1 气相生长法 182

9.2 水溶液生长法 184

9.3 水热生长法 191

9.4 熔盐生长法 192

9.5 熔体生长法 196

思考题 205

第10章 薄膜沉积的方法与技术 206

10.1 物理气相沉积蒸发法 206

10.2 物理气相沉积溅射法 217

10.3 物理气相沉积的其他方法 232

思考题 241

参考文献 242

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