光刻掩膜版的制造

作者：武汉无线电元件三厂编
出版社：武汉无线电元件三厂
出版年份：1972
ISBN：
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一、制作超微粒干版工艺 1

二、光刻掩膜图形的绘制 6

三、刻图 9

四、初缩照相工艺 10

五、显影、停影、定影及水洗 18

六、精缩照相 20

七、真空蒸发铬版 38

八、铬版复印 45

九、44—KR型光刻掩膜版的制造 51