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- 作 者:武汉无线电元件三厂编
- 出 版 社:武汉无线电元件三厂
- 出版年份:1972
- ISBN:
- 标注页数:66 页
- PDF页数:72 页
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一、制作超微粒干版工艺 1
二、光刻掩膜图形的绘制 6
三、刻图 9
四、初缩照相工艺 10
五、显影、停影、定影及水洗 18
六、精缩照相 20
七、真空蒸发铬版 38
八、铬版复印 45
九、44—KR型光刻掩膜版的制造 51