表面分析技术

作者：陆家和，陈长彦等编著
出版社：北京：电子工业出版社
出版年份：1987
ISBN：15290·468
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第一章绪论 1

第二章晶体结构和X射线衍射原理 15

第三章低能电子衍射（LEED）和反射式高能电子衍射（RHEED） 27

第四章场电子显微镜（FEM）和场离子显微镜（FIM） 84

第五章能量分析器 132

第六章俄歇电子能谱（AES） 174

第七章 X射线光电子谱（XPS） 213

第八章紫外光电子谱（UPS） 258

第九章离子散射谱（ISS） 296

第十章次级离子质谱（SIMS） 320

第十一章离子中和谱与脱附谱 376

第十二章电子能量损失谱 419

附录Ⅰ锁定放大器 465

附录Ⅱ用脉冲计数方法测量微弱电流 480

附录Ⅲ常用表面分析方法英文全名 486