- 作 者：王贻华，胡正琼编
- 出 版 社：北京：航空工业出版社
- 出版年份：1992
- ISBN：7800464245
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第一章 绪论 1
1-1 离子注入学科的作用和意义 1
1-2 国内外离子束研究概况 2
1-3 离子注入技术的特点 4
第二章 离子注入装置的物理基础 6
2-1 概述 6
2-2 基本工作原理 7
第三章 离子与固体相互作用的物理基础 17
3-1 离子与固体相互作用的基本概念 17
3-2 粒子弹性碰撞 19
3-3 离子与固体表面的相互作用 26
第四章 注入离子的射程分布理论 30
4-1 非晶靶中的射程分布理论 30
4-2 单晶靶中的射程分布理论 37
附录4-1 离子注入投影射程表 43
第五章 离子注入材料分析方法(Ⅰ) 52
5-1 离子注入材料分析概述 52
5-2 二次离子质谱技术(SIMS) 53
5-3 背散射能谱技术(RBS) 60
5-4 核反应分析法(NRA) 73
5-5 质子激发X荧光分析技术(PIXE) 78
附录5-1 串列加速器 85
6-1 俄歇电子能谱分析(AES) 86
第六章 离子注入材料分析方法(Ⅱ) 86
6-2 X射线衍射结构分析(XRD) 90
6-3 电子显微镜分析(TEM、SEM) 94
6-4 电子自旋共振技术(ESR) 100
6-5 正电子湮没技术(PAT) 104
第七章 金属物理基础 117
7-1 金属的电子理论 117
7-2 金属的结构 120
7-3 合金的结构 123
7-4 金属和合金中的扩散 126
7-5 固态相变 130
附录7-1 周期表中部分元素的晶体结构、原子直径及核外电子分布总表 135
第八章 金属材料的离子束改性 136
8-1 金属离子注入的基本效应 136
8-2 金属材料离子束改性的方法及特点 138
8-3 金属材料离子束改性的原理及应用实例 142
8-4 金属材料离子束改性的机理 156
第九章 功能材料的离子注入 162
9-1 半导体材料的离子注入 162
9-2 绝缘材料的离子注入 171
9-3 磁性材料的离子注入 173
9-4 光学材料的离子注入 175
9-5 超导材料的离子注入 176
参考文献 180