当前位置： 硅超大规模集成电路工艺技术 理论、实践与模型 > 购买云解压PDF图书
- 作 者：（美）普卢默（Plummer，J.D.）
- 出 版 社：北京：电子工业出版社
- 出版年份：2003
- ISBN：7505386387
- 注意：在使用云解压之前，请认真核对实际PDF页数与内容!
在线云解压
价格(点数)
购买连接
说明
转为PDF格式
21
（在线云解压服务）
云解压服务说明
1、本站所有的云解压默认都是转为PDF格式，该格式图书只能阅读和打印，不能再次编辑。
云解压下载及付费说明
1、所有的电子图书云解压均转换为PDF格式，支持电脑、手机、平板等各类电子设备阅读；可以任意拷贝文件到不同的阅读设备里进行阅读。
2、云解压在提交订单后一般半小时内处理完成,最晚48小时内处理完成。(非工作日购买会延迟)
第1章 引言及历史展望 1
第2章 现代CMOS工艺技术 49
第3章 晶体生长、晶圆片制造及硅晶圆片的基本特性 93
第4章 半导体生产——洁净室、晶圆片清洗与吸杂 151
第5章 光刻 201
第6章 热氧化及硅/二氧化硅界面 287
第7章 杂质扩散 371
第8章 离子注入 451
第9章 薄膜淀积 509
第10章 刻蚀 609
第11章 后道工艺技术 681
附录 787
索引 805