大规模集成电路专用设备研讨暨学术交流会论文选下

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综述 1

国外集成电路专用设备的发展 1

光学曝光的潜力与前景 6

光刻设备 10

分步重复投影光刻物镜设计 10

微细光刻照明系统汞灯“弧闪”的初步研究 16

光刻机光学系统的质量要求和象质检验 22

投影光刻机自动调焦调平技术 25

光刻设备的使用以及新设备的调机和工艺试验 31

测试仪器 36

掩模缺陷检测光学方法 36

自动掩模检查系统中微细缺陷探测的光学问题 40

双频激光测量系统在LSI光刻工艺设备中的应用 45

采用负载观测器的定位控制系统 51

其它 54

静电在集成电路生产中的危害及消除 54

文摘 57

来信照登 59

附：JK—1型接近式光刻机院级鉴定意见等 60

建议书 63

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