大规模集成电路制造与测试设备译文集

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目录 1

χ射线光刻 1

χ射线曝光装置 11

Nikon接近式光刻机 18

大规模集成电路中的光刻技术——紫外线曝光及电子束曝光 26

带有定位微调装置的χ射线曝光系统 43

电子束曝光系统的自动对准 48

掩模对准装置 56

一种新的干涉对准技术 62

用新的干涉方法对准χ射线印刻掩模——实验结果 65

原图形发生器——机械设计 68

数显定位机械工作台 76

用各种简单相位光栅实现多重成象 81

用空间滤波法排除周期性图象上的非周期性结构 94

光掩模修整用加工技术 97

用于检查集成电路引线图形的自动光学装置 102

光学和半导体元件的表面检验 114

双焦平面显微镜 118

显微物镜的简单双焦元件 123

人物介绍——小资料 130

集成电路与光学仪器——小资料 142

大规模集成电路制造与测试设备 译文集