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- 作 者：陈国平主编
- 出 版 社：南京：东南大学出版社
- 出版年份：1993
- ISBN：7810237268
- 标注页数：217 页
- PDF页数：224 页
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绪论 1
第一章 薄膜的制备技术 5
1-1蒸发 5
1-2溅射镀膜 19
1-3离子镀 31
1-4离子束沉积 39
1-5化学气相沉积 44
1-6等离子体化学气相沉积 58
1-7分子束外延 67
1-8LB技术 76
1-9Sol-Gel工艺 83
第二章 薄膜厚度和沉积速率的测定和监控 94
2-1概述 94
2-2触针法 95
2-3秤量法 96
2-4石英晶体振荡法 96
2-5电阻法 101
2-6光干涉法 104
2-7椭圆偏振法 108
第三章 薄膜的形成机理 111
3-1形成薄膜的起始条件 111
3-2成核理论 115
3-3薄膜的生长过程 118
第四章 薄膜的结构与缺陷 130
4-1薄膜的非晶态结构 130
4-2薄膜的亚稳态结构 134
4-3薄膜中的织构 136
4-4薄膜的晶粒组织和表面状态 140
4-5薄膜中的缺陷 150
第五章 薄膜的性质 159
5-1薄膜的力学性质 159
5-2薄膜的电学性质 171
5-3薄膜的光学性质 182
5-4薄膜的磁学性质 196
附表1元素蒸发镀膜特性 214
附表2无机化合物直接蒸发镀膜特性 216