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薄膜物理与技术
  • 作 者:陈国平主编
  • 出 版 社:南京:东南大学出版社
  • 出版年份:1993
  • ISBN:7810237268
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绪论 1

第一章 薄膜的制备技术 5

1-1蒸发 5

1-2溅射镀膜 19

1-3离子镀 31

1-4离子束沉积 39

1-5化学气相沉积 44

1-6等离子体化学气相沉积 58

1-7分子束外延 67

1-8LB技术 76

1-9Sol-Gel工艺 83

第二章 薄膜厚度和沉积速率的测定和监控 94

2-1概述 94

2-2触针法 95

2-3秤量法 96

2-4石英晶体振荡法 96

2-5电阻法 101

2-6光干涉法 104

2-7椭圆偏振法 108

第三章 薄膜的形成机理 111

3-1形成薄膜的起始条件 111

3-2成核理论 115

3-3薄膜的生长过程 118

第四章 薄膜的结构与缺陷 130

4-1薄膜的非晶态结构 130

4-2薄膜的亚稳态结构 134

4-3薄膜中的织构 136

4-4薄膜的晶粒组织和表面状态 140

4-5薄膜中的缺陷 150

第五章 薄膜的性质 159

5-1薄膜的力学性质 159

5-2薄膜的电学性质 171

5-3薄膜的光学性质 182

5-4薄膜的磁学性质 196

附表1元素蒸发镀膜特性 214

附表2无机化合物直接蒸发镀膜特性 216

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