等离子体腐蚀译文集

作者：北京电子管厂电子编委会编辑
出版社：北京电子管厂技术情报室
出版年份：1976
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1等离子体工艺简介 1

2射频等离子体的光谱分析 6

3通用射频等离子体腐蚀技术 11

4薄膜的快速等离子体腐蚀 15

5反应等离子体微电子工艺设备的应用 18

6等离子体腐蚀周期的确定 24

7化学选择的各向异性等离子体腐蚀 27

8等离子体腐蚀技术的最近动向 32

9等离子体腐蚀技术 38

10等离子体腐蚀在集成电路制造中的应用 44

11等离子体加工的发展及其质谱监控 54

12等离子体腐蚀工艺综述 60

13气体等离子体应用于抗反射铬掩模的微加工 66

14用气体等离子体腐蚀方法的微细加工技术 70

15气体等离子体辐射对双极品体管电学特性的影响 73

16等离子体腐蚀可编程序只读存储器及其它问题 75

17等离子体腐蚀在失效分析中的应用 83

18等离子体腐蚀氮化硅 87

16等离子体腐蚀多晶硅 89

20一种新的等离子体钻蚀现象 90