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- 作 者:北京电子管厂电子编委会编辑
- 出 版 社:北京电子管厂技术情报室
- 出版年份:1976
- ISBN:
- 标注页数:93 页
- PDF页数:95 页
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1等离子体工艺简介 1
2射频等离子体的光谱分析 6
3通用射频等离子体腐蚀技术 11
4薄膜的快速等离子体腐蚀 15
5反应等离子体微电子工艺设备的应用 18
6等离子体腐蚀周期的确定 24
7化学选择的各向异性等离子体腐蚀 27
8等离子体腐蚀技术的最近动向 32
9等离子体腐蚀技术 38
10等离子体腐蚀在集成电路制造中的应用 44
11等离子体加工的发展及其质谱监控 54
12等离子体腐蚀工艺综述 60
13气体等离子体应用于抗反射铬掩模的微加工 66
14用气体等离子体腐蚀方法的微细加工技术 70
15气体等离子体辐射对双极品体管电学特性的影响 73
16等离子体腐蚀可编程序只读存储器及其它问题 75
17等离子体腐蚀在失效分析中的应用 83
18等离子体腐蚀氮化硅 87
16等离子体腐蚀多晶硅 89
20一种新的等离子体钻蚀现象 90