当前位置：固体与表面 一位化学家关于扩展结构中成键作用的见解pdf电子书下载 > 数理化
- 作 者：（美）R.霍夫曼（Roald Hoffmann）著；郭洪猷，李 静译
- 出 版 社：北京：化学工业出版社
- 出版年份：1996
- ISBN：7502516441
- 标注页数：144 页
- PDF页数：156 页
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目录 1
导论 1
轨道和一维体系能带 4
Bloch函数，R，能带结构 6
能带宽度 8
能带如何伸展 9
Pt（Ⅱ）平面四方型络合物的重叠堆积 10
Fermi能级 15
维数较多，至少二维的体系 16
表面问题的提出 22
态密度 26
电子在何处？ 32
分子－表面相互作用过程的探讨：DOS分解键在何处？ 43
一个固体实例：ThCr2Si2的结构前线轨道概念 66
表面上的轨道相互作用 68
一个研究实例：Ni（100）面上的CO 71
化学吸附势垒 74
化学吸附是一种折衷效应 75
三维扩展结构中的前线轨道 78
含多于一个电子单元的单胞，能带折叠 83
晶体中的成键 92
Peierls畸变 93
三维体系概述 104
表面上轨道相互作用的定性解释 109
Fermi能级问题 112
另一种方法论及其他人的贡献 120
固体科学中的新内容是什么？ 123
参考文献 133
索引 139