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干法镀技术
  • 作 者:成都无线电一厂伍学高等编著
  • 出 版 社:成都:四川科学技术出版社
  • 出版年份:1987
  • ISBN:753640039X
  • 标注页数:302 页
  • PDF页数:311 页
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第一章 概述 1

第一节 沉积膜层的方法 1

第二节 干法镀及其相关技术 4

第三节 干法镀的特点 7

第四节 干法镀的应用 13

第五节 干法镀的现状和展望 17

第二章 真空技术 24

第一节 基本概念 24

第二节 真空的获得 31

第三节 真空测量 45

第四节 真空检漏 50

第五节 真空系统内的材料 52

第一节 真空镀膜与涂料 58

第三章 涂料和施涂 58

第二节 常用涂料简介 62

第三节 紫外光固化涂料 69

第四节 施涂方法 80

第四章 镀膜前的表面处理 83

第一节 镀件的成型 83

第二节 镀件表面的清洁方法 83

第三节 静电除尘 89

第四节 镀件的除气 96

第五节 涂底漆 97

第五章 真空蒸发镀膜 99

第一节 真空镀膜机 99

第二节 蒸发源 104

第三节 热蒸镀方法 123

第四节 真空热蒸发镀膜工艺 142

第五节 金属膜的制备 146

第六节 化合物膜的制备 160

第七节 膜层结合力及其影响因素 169

第六章 磁控溅射镀膜 182

第一节 磁控溅射镀膜机 182

第二节 磁控溅射镀膜原理 189

第三节 磁控溅射源 203

第四节 制靶技术 210

第五节 磁控溅射镀膜工艺 215

第六节 金属、合金的溅射 221

第七节 膜层质量与溅射工艺条件 226

第七章 离子镀膜 243

第一节 离子镀膜机 243

第二节 离子镀膜原理 251

第三节 直流离子镀法 257

第四节 弧光放电型高真空离子镀 259

第五节 高频离子镀 262

第六节 中空阴极法离子镀 267

第七节 反应性离子镀 270

第八节 离子镀膜工艺 273

第九节 影响膜层特性的主要因素 277

第八章 镀后处理 288

附录一 用干法镀的塑料 289

附录二 干法镀制品的物性 290

附录三 包装用蒸镀膜的阻气性 291

附录四 塑料镀层的特性 291

附录五 镀层性能指标及测示方法 296

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