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- 作 者：（日）榷田俊一著
- 出 版 社：半导体工艺设备编辑部
- 出版年份：1978
- ISBN：
- 标注页数：104 页
- PDF页数：108 页
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第一章 分子束外延概述 1
1.1 什么是外延 1
1.2 分子束外延 4
第二章 超高真空和分子束 9
2.1 超高真空的必要性 9
2.2 分子束的产生 12
2.2.1 分子束的空间分布 17
2.2.2 喷射炉立式配置和水平配置 19
2.2.3 喷射炉的结构例 20
2.3 分子束的检测 21
2.3.1 离子规 21
2.3.2 质谐仪 22
2.3.3 其他检测方法 25
第三章 分子束与固体表面的相互作用及生长过程 27
3.1 吸附与脱附 27
3.1.1 附着系数 29
3.2 固体表面的运动学 36
3.3 分子束外延的生长例子 41
第四章 生长层的评价 48
4.1 用电子束进行评价 48
4.1.1 RHEED 49
4.1.2 LEED，饿歇能谱，ELS 63
4.2 电气的评价 64
4.3 光学的评价 67
4.3.1 光致发光 67
4.3.2 利用X射线评价 71
第五章 分子束外延的应用 78
5.1 电子器件 78
5.2 光电器件 81
5.2.1 发光器件 84
5.2.2 光波导 87
5.3 多层周期结构及其应用 88
结束语 97
参考文献 99