
- 作 者:
- 出 版 社:
- 出版年份:1976
- ISBN:
- 标注页数:162 页
- PDF页数:167 页
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多层介质膜牢固性的研究(综述) 1
二氧化锆(ZrO2)—二氧化硅(SiO2)反射膜的制备 8
激光器件的增透膜 14
10.6微米减反射膜和二氧化碳激光器窗口的镀膜 18
电介质窄带干涉滤光片的制备 26
用Ge和ZnS镀制10.6微米滤光片 35
反射型激光防护镜 42
彩色电视摄象机镜头的增透膜 48
TiO2—SiO2冷光膜的制备 55
钠分光棱镜的镀制 64
透射型冷镜的制备 69
在真空镀膜中使用的环形电子枪 75
阴极溅射在薄膜蒸镀上的应用 81
用高频溅射法在NaCl上镀制硒保护膜 上海冶金所三室高频溅射组 上海光机所镀膜组 85
用波长扫描法控制窄带滤光片的厚度 90
离子氧反应蒸发试验 98
用电子显微镜分析光学介质膜的结构 海光机所茺膜组 上海计量测试管理局三室电镜组 103
薄膜的应力测量 111
多层介质膜的应力测量 117
激光对介质薄膜的破坏 120
激光与光学薄膜作用过程的分析 129
高速照相机在研究薄膜破坏过程中的应用 141
薄膜结构与激光破坏阈值的关系 上海光机所镀膜组 上海计量测试管理局三室电镜组 146
薄膜应力与激光破坏阈值的关系 159