- 作 者：张永宏主编
- 出 版 社：西安：西北工业大学出版社
- 出版年份：2016
- ISBN：9787561250037
- 标注页数：230 页
- PDF页数：238 页
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第1章 薄膜制备的真空技术基础 1
1.1 真空的基本知识 1
1.2 真空的获得 3
1.3 真空的测量 9
复习思考题 13
参考文献 13
第2章 薄膜的物理气相沉积 14
2.1 真空蒸发镀膜 14
2.2 溅射镀膜 26
2.3 其他物理气相沉积技术 50
2.4 分子束外延镀膜技术 59
专题1 磁控溅射镀膜技术 63
复习思考题 76
参考文献 77
第3章 薄膜制备的化学方法 80
3.1 薄膜的化学和电化学转化 80
3.2 薄膜的化学气相沉积 94
复习思考题 107
参考文献 107
第4章 薄膜材料的表征与评价 109
4.1 薄膜厚度的测量与监控 109
4.2 表面成分和组织结构分析 115
4.3 物理和化学性能测试 130
4.4 力学性能测试 132
专题2 非晶碳膜的结构和性能表征方法 145
复习思考题 156
参考文献 157
第5章 功能薄膜材料及其应用 160
5.1 光电薄膜 160
5.2 磁性薄膜 169
复习思考题 180
参考文献 180
第6章 超硬薄膜材料及其应用 181
6.1 金刚石膜 181
6.2 非晶碳膜 195
6.3 氮化碳（CNx）薄膜 215
复习思考题 225
参考文献 225