- 作 者：韩爱珍主编
- 出 版 社：南京：东南大学出版社
- 出版年份：1991
- ISBN：7810233831
- 标注页数：246 页
- PDF页数：253 页
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第一章 相图及其应用 1
§1-1 相律 1
§1-2 单组分二相物系的相平衡 4
§1-3 二组分物系的相平衡 10
§1-4 组分凝聚物系的各类相图 15
§1-5 相图在半导体生产中的应用 26
复习题 32
第二章 半导体技术中的有机物和高聚物 35
§2-1 有机化合物概论 35
§2-2 半导体生产中常用的有机物 41
§2-3 高聚物概论 51
§2-4 半导体生产中常用的高聚物 58
复习题 74
第三章 半导体技术中的高纯水 76
§3-1 半导体工程用水 76
§3-2 离子交换法制备高纯水 79
§3-3 电渗析法制备高纯水 89
§3-4 其它方法制备高纯水 93
§3-5 高纯水的纯度测量 96
复习题 101
第四章 半导体技术中的化学清洗 103
§4-1 半导体晶片表面沾污的杂质 103
§4-2 半导体晶片上有机杂质的清除 105
§4-3 络合物简介 111
§4-4 半导体晶片上无机杂质的清除 116
§4-5 高纯水在清洗中的作用 124
§4-6 超声波在清洗中的作用 125
§4-7 其它清洗方法 126
复习题 127
第五章 表面化学及其应用 128
§5-1 表面能及表面张力 128
§5-2 固体表面的吸附作用 135
§5-3 吸附在半导体工艺中的应用 147
§5-4 溶液的表面吸附作用 151
§5-5 裘面活性物质 153
复习题 164
第六章 半导体技术中的电化学 166
§6-1 电化学概论 166
§6-2 几种电极 169
§6-3 半导体技术中的腐蚀 173
§6-4 半导体材料的腐蚀 177
§6-5 等离子体辅助腐蚀 190
§6-6 金属的腐蚀 193
§6-7 影响化学腐蚀的因素 200
§6-8 电镀、电沉积、阳极氧化 203
复习题 206
第七章 光化学及其应用 206
§7-1 光化学基本概念和定律 206
§7-2 光化反应及速度方程式 214
§7-3 照相工艺中的光化学 216
§7-4 光刻工艺中的光化学 231
§7-5 半导体工艺中的激光化学 240
复习题 245
参考文献 245