- 作 者：傅广生著
- 出 版 社：保定：河北大学出版社
- 出版年份：2001
- ISBN：7810287443
- 标注页数：442 页
- PDF页数：450 页
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一 光谱学与激光器件 1
1.1 Bcl3振动激发弛豫的红外吸收研究 2
1.2 强红外场作用下Bcl3振动态传能动力学研究 16
1.3 MULTOPHOTON IONIZATION OF CHLORINE:THE3∑ustate 41
1.4 Cl3分子Rydberg态及混合Rydberg——价态多光子光谱 55
1.5 碘分子单频及双频多光子光谱 80
1.6 ANALYSIS OF Fou＋ION-PAIR STATE OG IODINE 95
1.7 碘分子高激发态光学双共振多光子离化光谱 110
1.8 SiH自由基A2△——X2Ⅱ跃迁光谱研究 120
1.9 快速脉冲集成电路激光电源 128
1.10 光栅选频无氦重复频率TEA CO2激光器 138
二 材料制备与合成 147
2.1 激光等离子体淀积硅膜 148
2.2 EXCIMER LASER ASSISTED DEPOSITION OF Cr AND B FILMS 165
2.3 脉冲CO2激光制备纳米级SiC粉末 174
2.4 半导体超薄层微结构的外延生长技术 183
2.5 TEXTURED DIAMIND FILMS GROWTH ON（100） SILICON VIA ELECTRONASSISTED HOT FILANENT CHEMICAL VAPOR DEPOSITION 200
2.6 电子助进热丝化学汽相沉积金刚石薄膜 210
2.7 硅基纳米微粒的激光烧蚀沉积及可见光发射特 227
2.8 辉光放电等离子体辅助XeCL准分子激光溅射沉积碳氮薄膜 241
三 光学诊断与动力学过程 255
3.1 DUNAMIC PROCESSION OF SiH4＋CH4 PLASMA INDUCED BY AN INFRARED LASER 256
3.2 脉冲红外激光诱发SiH4＋CH解离动力学研究 288
3.3 激光诱发SiH4＋CH等离子体的发射光谱 305
3.4 DIAGNOSIS OF KINETIC PROCESS IN SILANE LPCVD BY THE OPTOACOUSTIC LASER DEFLECTION（OLD） TECHNIQUE 314
3.5 激光等离子体淀积硅薄膜过程动力学研究 327
3.6 TEACO2激光诱发SiH4等离子体发光动力学研究 337
3.7 SiH4激光等离子体OES研究 354
3.8 SiH4激光等离子体内自由基反应动力学研究 364
3.9 可调谐TEA CO2激光辐照SiH4击穿过程的研究 379
3.10 SiH4分子的光声谱及声速的测量 386
3.11 SiH4激光等离子体内H谱线的线型研究 389
3.12 氮气辉光放电阴极鞘层重粒子输运过程研究 403
3.13 OPTICAL EMISSION STUDY OF THE PLASMA PLUME DYNAMICS DURING EXCIMER LASER ABLATION OF CARBON IN NITROGEN ATMOSPHERE 417
3.14 OPTICAL EMISSION DIAGNOSTICS OFGLOW DISCHARGE PLASMA FOR THE CARBON NITRIDE GROWTH PROCESS 431
后记 442