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半导体表面钝化  专题文摘
  • 作 者:中国科学技术情报研究所重庆分所编辑
  • 出 版 社:北京:科学技术文献出版社;重庆分社
  • 出版年份:1978
  • ISBN:15176·320
  • 标注页数:61 页
  • PDF页数:63 页
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一、述评和文献目录 1

二、钝化 1

目录 1

三、钝化机理 5

四、制备方法 14

1.化学汽相淀积(CVD) 14

2.热氧化 24

3.溅射和蒸发 27

5.阳极氧化 29

5.磷硅玻璃 31

6.其他方法 35

1.电学性质 38

五、特性 38

2.表面态 42

3.界面性质 47

4.辐射效应 51

5.C-V和Ⅰ-V特性 52

6.其它性质 54

六、测量 55

1.电参数 55

2.结构和缺陷 57

3.厚度 58

4.沾污和杂质 58

5.应力 61

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