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国外测试新技术 晶体中缺陷的X射线貌相术观察
  • 作 者:中国科学院上海冶金研究所X射线实验室译
  • 出 版 社:上海科学技术情报研究所
  • 出版年份:1974
  • ISBN:
  • 标注页数:191 页
  • PDF页数:195 页
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目录 1

前言 1

X射线貌相术在半导体晶体和器件研究上的应用 4

使用由弯曲晶体造成单色发散线束的X射线衍射貌相术的新方法 57

利用平行X射线束改善晶体莫尔条纹的可见度 63

扫描X射线貌相术的反馈控制方案 71

Lang貌相术的电-机械反馈控制 78

X射线像的电视显示 I.X射线貌相图 80

无位错硅中的空位团 94

半导体器件工艺中的硅材料问题 97

用X射线貌相术作工艺进程中硅内结构缺陷的测量 123

磷进入硅中的反常扩散 135

外延生长GaAs中的位错和界面上的面缺陷 144

外延磁泡畴柘榴石的X射线双晶貌相术 151

X射线貌相术在研究磁畴中的应用 158

铌酸锂单晶的X射线貌相研究 169

铝中位错的形成和运动的X射线貌相术研究 177

人造石英中位错的X射线貌相研究 182

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