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- 作 者：（美）凯勒（Keller，S.P）主编；罗英浩译
- 出 版 社：北京：冶金工业出版社
- 出版年份：1986
- ISBN：15062·4301
- 标注页数：692 页
- PDF页数：696 页
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目录 1
第一章 J.A.VanVechten半导体热化学梗概 1
第二章 P.J.Dean、A.G.Cullis和A.M.White半导体的特性及其检测 88
第三章 D.C.Miller和G.A.Rozgonyi缺陷的腐蚀、光学显微镜和X射线貌相的检测技术 171
第四章 A.J.R.DeKock晶锭的生长——提纯、掺杂和缺陷 194
第五章 H.B.Pogge气相外延 265
第六章 J.J.Hsieh液相外延 328
第七章 J.E.GREENE溅射法生长晶体 396
第八章 S.S.Lau,J.W.Mayer与W.Tseng硅和锗的固相外延 421
第九章 L.L.Chang分子束外延 446
第十章 JamesF.Gibbons离子注入 474
第十一章 W.A.Pliskin和R.A.Gdula钝化与绝缘 507
第十二章 G.A.N.Connell和R.A.Street非晶态半导体 546
第十三章 F.Holtzberg,S.vonMolnar和M.D.Coey稀土磁性半导体 636
第十四章 CharlesL.Braun有机半导体 681