- 作 者：（美）布鲁尔（Brewer，G.R.）著；杨树芬译
- 出 版 社：北京：国防工业出版社
- 出版年份：1986
- ISBN：15034·3066
- 标注页数：356 页
- PDF页数：365 页
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第一章 高分辨率刻蚀 1
1.1 引言 1
目录 1
1.2 改进刻蚀技术的必要性 2
1.3 电子束刻蚀 10
1.4 高分辨率刻蚀的技术长处 17
1.5 电子束刻蚀的限制 23
1.6 经济因素 41
1.7 刻蚀工艺的现状和前景 50
1.8 本书的内容 54
参考文献 55
2.1 引言 58
第二章 电子束工艺 58
2.2 电子在固体中的散射 60
2.3 抗蚀剂图形 77
2.4 电子抗蚀剂的特性 92
2.5 采用电子抗蚀剂的工艺过程 109
2.6 电子束对准 128
2.7 小结 137
参考文献 139
第三章 电子束刻蚀的设备 142
3.1 一般描述 142
3.2 电子光学镜筒 145
3.3 机器的设计和工作方式 174
3.4 目前机器设备的技术水平 198
参考文献 215
第四章 用电子束刻蚀制造器件 218
4.1 概述 218
4.2 光刻蚀与电子束刻蚀的比较 219
4.3 电子束刻蚀的特点 223
4.4 用电子束刻蚀制造电子器件 236
4.5 电子束刻蚀的工艺限制 251
4.6 小结 256
参考文献 257
第五章 用电子束刻蚀制造掩模 259
5.1 引言 259
5.2 掩模制造的要求 261
5.3 掩模制造的方法 269
5.4 材料的选择 278
5.5 工艺过程 285
5.6 性能 296
5.7 展望 305
参考文献 307
第六章 复制技术 310
6.1 引言 310
6.2 复制系统的物理基础 313
6.3 复制系统的种类 319
6.4 几种复制方法的比较 353
参考文献 355