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- 作 者：中国科学院化学研究所《光致抗蚀剂》组编著
- 出 版 社：北京：科学出版社
- 出版年份：1977
- ISBN：13031·600
- 标注页数：190 页
- PDF页数：195 页
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目录 1
第一章 光致抗蚀剂简介 1
一、光刻工艺与光致抗蚀剂 1
二、光致抗蚀剂的种类 5
第二章 光致抗蚀剂的类型、感光机理和感光度 8
一、光致抗蚀剂的类型及其感光机理 8
二、光致抗蚀剂的感光度 47
第三章 光刻工艺 62
一、粘附 62
二、光刻胶的光谱特性与最佳曝光条件 71
三、涂胶与涂层厚度 86
四、前烘焙与后烘焙 89
五、腐蚀 92
六、去胶 101
七、清洁 107
第四章 几种光致抗蚀剂的制备 115
一、聚乙烯醇肉桂酸酯光致抗蚀剂 115
二、PCDA-053光致抗蚀剂 120
三、环化橡胶型光致抗蚀剂 129
四、聚酯型光致抗蚀剂 141
五、701正性光致抗蚀剂 153
第五章 光致抗蚀剂的某些新发展与展望 161
一、用于电子束曝光的光致抗蚀剂 161
二、由聚合物涂层曝光直接腐蚀薄膜 166
三、耐高温的光致抗蚀剂 168
四、由表面光聚合形成光致抗蚀剂 169
五、由单体直接聚合成感光性树脂 171
六、光致抗蚀剂“胶卷” 174
七、光敏化电荷转移聚合 175
八、感光性树脂增感的研究 176