- 作 者：（日）荒井英辅
- 出 版 社：北京：科学出版社
- 出版年份：2000
- ISBN：7030036042
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1 集成电路的学习方法 1
1.1 集成电路的发明 2
1.2 集成电路发展的动力 4
1.3 集成电路的未来 6
1.4 本书的构成 7
篇外话 8
集成电路专利和日本的半导体工业 8
引用文献 10
练习题 10
2 集成电路中的半导体器件 12
2.1 pn结 12
2.2 双极型晶体管 18
2.3 MOS晶体管 25
2.4 集成电路中的无源元件 36
练习题 38
固体器件的发明 38
引用文献 39
3 集成电路的基础工艺 42
3.1 采用硅单晶制造集成电路的理由 42
3.2 氧化、扩散及离子注入技术 43
3.3 形成精细图形的光刻技术 54
3.4 腐蚀技术 58
同步辐射(SOR)X线光刻技术 59
3.5 薄膜淀积技术 61
练习题 65
引用文献 65
4 集成电路的制造工艺 68
4.1 集成电路的基本结构 68
4.2 双极型集成电路的制造 72
4.3 MOS集成电路的制造 79
4.4 多层布线 85
工艺的低温化 89
练习题 89
5.1 数字集成电路的基本电路 92
5 数字集成电路的基本电路 92
逻辑门电路的噪声容限 93
5.2 CMOS集成电路的基本电路 100
5.3 集成电路掩模的设计 109
练习题 113
引用文献 113
6 工艺、器件及电路的模拟技术 116
6.1 假想工厂 116
6.2 制造工艺的模拟 116
像素模式(pixel model) 121
6.3 器件电特性的模拟 123
6.4 基本电路特性的模拟 127
6.5 模拟结果和实际的差异 133
练习题 133
引用文献 134
练习题解答 135
参考文献 141