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- 作 者:上海科学技术文献出版社编
- 出 版 社:上海:上海科学技术文献出版社
- 出版年份:1979
- ISBN:15192·23
- 标注页数:171 页
- PDF页数:174 页
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目录 1
1.国外半导体硅单晶及其质量 上海有色金属研究所 夏锦禄 1
2.硅晶片的切磨抛工艺 中国科学院上海冶金研究所 王自筠 12
3.硅烷外延 复旦大学 张冠生 23
4.诱生缺陷与硅器件性能 中国科学院上海冶金研究所 杨传铮 田佩兰 34
5.杂质吸收效应 上海半导体器件研究所 王儒全 72
6.硅-二氧化硅界面态 复旦大学 王迅 82
7.硅材料测试方法的几点改进 上海科学技术大学 曹泽淳 92
8.汞探针容-压法硅外延测试 上海元件五厂、复旦大学 包宗明 98
9.汞探针C-V测试在硅外延生产及元件工艺中的作用 上海元件五厂、复旦大学 包宗明 104
10.扩展电阻法的基本原理及其应用 复旦大学 张敬海 111
11.X射线貌相术及其在半导体材料和器件中的应用 中国科学院上海冶金研究所 杨传铮 125