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- 作 者：技术交流资料选编
- 出 版 社：上海科学技术情报研究所
- 出版年份：1976
- ISBN：
- 标注页数：124 页
- PDF页数：128 页
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目 录 1
以路线斗争为纲提高电路可靠性的体会 苏州半导体器件一厂 1
为提高电路合格率而努力 上海无线电十九厂 6
对硅（100）晶面在集成电路中应用的探讨 八三三一厂 13
浅饱和高速TTL电路及其在高低温下的适用性 北京无线电器件厂 19
关于提高介质隔离数字集成电路参数稳定性问题 上海无线电七厂 42
用MOS电容法测量SiO2中的离子沾污 复旦大学物理系 44
表面钝化和C-V分析 上海冶金研究所 54
数字电路高电源大功率直流老化筛选 八七八厂 65
筛选数字集成电路的一种新方法——Vcc-Icc特性曲线筛选法 八七八厂 77
集成电路可靠性试验总结…………………………………………………… 85
京字一一五部队、四○一所、北京半导体器件三厂、八七八厂 85
集成电路底座酸性镀金（合金电镀） 上海无线电十九厂 119