点此搜书

大规模集成电路新进展
  • 作 者:上海市电子学会主编
  • 出 版 社:上海:上海科学技术文献出版社
  • 出版年份:1981
  • ISBN:15192·119
  • 标注页数:117 页
  • PDF页数:121 页
  • 请阅读订购服务说明与试读!

文档类型

价格(积分)

购买连接

试读

PDF格式

7

立即购买

点击试读

订购服务说明

1、本站所有的书默认都是PDF格式,该格式图书只能阅读和打印,不能再次编辑。

2、除分上下册或者多册的情况下,一般PDF页数一定要大于标注页数才建议下单购买。【本资源121 ≥117页】

图书下载及付费说明

1、所有的电子图书为PDF格式,支持电脑、手机、平板等各类电子设备阅读;可以任意拷贝文件到不同的阅读设备里进行阅读。

2、电子图书在提交订单后一般半小时内处理完成,最晚48小时内处理完成。(非工作日购买会延迟)

3、所有的电子图书都是原书直接扫描方式制作而成。

目录 1

一、即将问世的超大规模集成电路器件 1

二、只需单一电源的高性能64 K动态RAM 9

三、具有小型机性能的16位微处理机 16

四、模拟集成电路中MOS工艺的潜力 21

五、全MOS模数转换技术 30

六、提高LSI芯片性能的五项技术 38

七、将传统器件按比例缩小的H-MOS 41

八、短沟道MOS场效应晶体管的探索 48

九、激光退火:不用炉子的半导体加工 59

十、X射线光刻技术 64

十一、腐蚀无钻蚀细线条的等离子体加工装置 72

十二、半导体工艺用的离子磨削 78

十三、微电路可靠性方面的半导体材料和加工工艺 83

十四、混合微电路中的带式自动键合技术 89

十五、用扫描电子显微镜测量集成电路的电压 95

十六、随机逻辑VLSI器件所用的调速全自动设计程序 100

十七、集成电路技术的过去、现在和未来 109

购买PDF格式(7分)
返回顶部